華研國產DUV光刻機 可產8納米下晶片
文章日期:2024年9月16日

【明報專訊】工業和信息化部9日印發《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024 年版)》通知,電子專用裝備列表包括國產氟化氪光刻機(110nm),以及氟化氬光刻機(65nm)。被業內認為是國產深紫外線(DUV)光刻機的里程碑式進步。

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