日邀英特爾合建EUV光刻機中心 助本土研發
文章日期:2024年9月5日

【明報專訊】《日經亞洲》周二(3日)報道,日本政府將與晶片巨擘英特爾合作,在日本國內興建一座極紫外(EUV)光刻機研發中心,建成後將容許不同企業使用,是日本首家同類EUV光刻機中心,有望推動日本國內高端科技開發。

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